Размер шрифта:
А
А
А
|  Шрифт:
Arial
Times
|  Интервал:
Стандартный
Средний
Большой
|  Цвет сайта:
Ц
Ц
Ц
Ц
Ц

Технология эпитаксиальных слоев и гетерокомпозоций

Доступ онлайн
2 000 Р
В корзину

Технология эпитаксиальных слоев и гетерокомпозоций

Нет доступа
Новинка
Издательство: ИД МИСиС
Вид издания: Учебно-методическая литература
Уровень образования: ВО - Бакалавриат
Год издания
2001
Кол-во страниц
158
Артикул
753429.01.99
Аннотация
Даны краткая история и пути и перспективы развития микроэлектроники, в частности, в области технологии эпитаксиальных гетерокомпозиций. Кратко описаны процессы парофазной эпитаксии химическим осаждением и жидкофазной эпитаксии кремния, соединений A"'BV и их твердых растворов, применяемого оборудования. Приведены математические модели этих процессов, включающие термодинамический и кинетический блоки. При получении гетерокомпозиций учитываются упругие напряжения и рассматриваются пути их устранения, в частности, создание изопериодных композиций и сверхрешеток. Кроме того, приведены восемь комплексных задач для самостоятельного вычислительного эксперимента при выборе параметров процесса, а также процедура решения задач с использованием разработанного пакета программ на ПЭВМ. Предназначено для студентов, обучающихся по специальности 200100 (направление 654100), а также для научных сотрудников и инженеров-технологов, занимающихся разработкой систем управления и оптимизации технологических процессов.
Библиографическая запись Скопировать запись
Кожитов, Л. В. Технология эпитаксиальных слоев и гетерокомпозоций : учебно-методическое пособие / Л. В. Кожитов, В. В. Крапухин, В. А. Улыбин. - Москва : ИД МИСиС, 2001. - 158 с. - Текст : электронный. - URL: https://znanium.com/catalog/product/1239512 (дата обращения: 06.03.2021). – Режим доступа: по подписке.