Основы технологии электронной компонентной базы : методы контроля характеристик материалов в технологических процессах получения тонкопленочных материалов
Покупка
Тематика:
Полупроводниковая электроника
Издательство:
Издательский Дом НИТУ «МИСиС»
Год издания: 2013
Кол-во страниц: 42
Дополнительно
Вид издания:
Учебное пособие
Уровень образования:
ВО - Бакалавриат
ISBN: 978-5-87623-710-1
Артикул: 753358.01.99
Доступ онлайн
В корзину
В лабораторном практикуме излагаются теоретические основы технологических процессов роста полупроводниковых материалов и методы контроля их электрофизических и структурных параметров. Материал практикума соответствует учебному плану курса «Основы технологии электронной компонентной базы». Предназначен для студентов, обучающихся по направлению 210100 в качестве бакалавров, инженеров и магистров, при выполнении лабораторных работ, подготовке дипломных работ и магистерских диссертаций.
Тематика:
ББК:
УДК:
ОКСО:
- ВО - Бакалавриат
- 11.03.04: Электроника и наноэлектроника
- ВО - Магистратура
- 11.04.04: Электроника и наноэлектроника
ГРНТИ:
Скопировать запись
Фрагмент текстового слоя документа размещен для индексирующих роботов.
Для полноценной работы с документом, пожалуйста, перейдите в
ридер.
МИНИСТЕРСТВО ОБРАЗОВАНИЯ И НАУКИ РФ ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ АВТОНОМНОЕ ОБРАЗОВАТЕЛЬНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ ВЫСШЕГО ПРОФЕССИОНАЛЬНОГО ОБРАЗОВАНИЯ «НАЦИОНАЛЬНЫЙ ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ «МИСиС» № 2293 Кафедра технологии материалов электроники О.И. Рабинович Д.Г. Крутогин Основы технологии электронной компонентной базы Методы контроля характеристик материалов в технологических процессах получения тонкопленочных материалов Лабораторный практикум Рекомендовано редакционно-издательским советом университета Москва 2013
УДК 621.38 Р12 Р е ц е н з е н т канд. физ.-мат. наук, доц. С.Ю. Юрчук Рабинович, О.И. Р12 Основы технологии электронной компонентной базы : методы контроля характеристик материалов в технологических процессах получения тонкопленочных материалов : лаб. практикум / О.И. Рабинович, Д.Г. Крутогин. – М. : Изд. Дом МИСиС, 2013. – 42 с. ISBN 978-5-87623-710-1 В лабораторном практикуме излагаются теоретические основы технологических процессов роста полупроводниковых материалов и методы контроля их электрофизических и структурных параметров. Материал практикума соответствует учебному плану курса «Основы технологии электронной компонентной базы». Предназначен для студентов, обучающихся по направлению 210100 в качестве бакалавров, инженеров и магистров, при выполнении лабораторных работ, подготовке дипломных работ и магистерских диссертаций. УДК 621.38 ISBN 978-5-87623-710-1 © О.И. Рабинович, Д.Г. Крутогин, 2013
СОДЕРЖАНИЕ Предисловие..............................................................................................4 Лабораторная работа 1. Измерение предельного вакуума и быстроты действия турбомолекулярного насоса ...............................5 Лабораторная работа 2. Измерение удельного сопротивления металлических и полупроводниковых слоев четырехзондовым методом....................................................................................................13 Лабораторная работа 3. Определение глубины залегания p-n перехода методом сферического шлифа.......................................24 Лабораторная работа 4. Исследование оптических свойств тонкопленочных структур методами спектрофотометрии.................28
ПРЕДИСЛОВИЕ Современное технологическое оборудование электронной промышленности характеризуется комплексом сочетающихся функциональных и контрольных процессов и требует высокопрофессионального обслуживания и длительной предпусковой подготовки. Лабораторные работы соответствуют программе курса «Основы технологии электронной компонентной базы» для направления подготовки 210100 «Электроника и микроэлектроника». В работах предусмотрен достаточно широкий выбор параметров технологических процессов (исходных веществ, легирующих примесей, рабочих концентраций, конструктивных параметров оборудования), допускающий индивидуализацию заданий по выполнению экспериментальных исследований важнейших свойств и характеристик полупроводниковых материалов. Коллектив авторов выражает благодарность доцентам кафедры «Технологии материалов электроники» Сергею Петровичу Курочке и Виктору Александровичу Никоненко за огромную помощь и советы при подготовке лабораторного практикума.
Лабораторная работа 1 ИЗМЕРЕНИЕ ПРЕДЕЛЬНОГО ВАКУУМА И БЫСТРОТЫ ДЕЙСТВИЯ ТУРБОМОЛЕКУЛЯРНОГО НАСОСА Цель работы: получение практических навыков работы с турбомолекулярным насосом, а также ознакомление с методикой измерения его основных характеристик. 1.1. Теоретическое введение Турбомолекулярные вакуумные насосы широко применяются для откачки газов в электротехнической, электронной, атомной, авиационной, химической и других отраслях промышленности. Турбомолекулярные насосы обладают следующими преимуществами перед другими высоковакуумными средствами откачки: – удаляют газ из сосуда, а не сорбируют его на рабочих органах, как крионасосы, электрофизические насосы различного типа и адсорбционные; – не загрязняют среду откачиваемого сосуда парами углеводородов или другими рабочими телами, как диффузионные насосы, насосы с распылением титана и др.; – имеют большую быстроту действия при откачке газов с малой молекулярной массой, обычно трудноудаляемых из высоковакуумных систем; – отличаются технологичностью конструкции при обеспечении большой быстроты действия. Отмеченные преимущества турбомолекулярных насосов определяют области их применения: – создание и поддержание остаточного давления в пределах 10–7…10–10 Па при откачке сосудов, загрязнение сред которых парами углеводородов и другими рабочими веществами недопустимо; – откачка неконденсирующихся газов (Н2, Не, Ne) в высоковакуумных системах; – в установках нанесения пленок металлов, масс-спектрометрии, ускорителях элементарных частиц, а также в установках для имитации космических условий и т.д.
Турбомолекулярные насосы работают в области молекулярного потока, где геометрические размеры лопаток меньше длины свободного пути молекулы. Попадая на вход насоса, молекулы получают от быстродвижущейся рабочей лопатки импульс движения в требуемом направлении откачки. Следовательно, необходимо, чтобы круговая скорость лопаток ротора была одного порядка со средней молекулярной скоростью. Создавая соответствующую конфигурацию роторных и статорных лопаток, достигают такого состояния, когда вероятность прохождения молекул с высоковакуумной стороны к форвакуумной была значительно больше, чем в обратном направлении. Конструкция турбомолекулярного насоса представлена на рис. 1.1, 1.2. В корпусе насоса установлены неподвижные статорные диски. Вращающийся ротор представляет собой вал с расположенными на нем рабочими колесами, выполненными в виде дисков с косыми радиальными пазами, либо в виде лопаточных колес (лопатки устанавливаются под определенным углом к торцевой поверхности втулки). Если рабочие колеса выполнены в виде дисков с прорезями, в статорных колесах такой же формы прорези выполняют зеркально по отношению к прорезям роторных колес. Если рабочие колеса имеют лопатки, то и статорные колеса изготавливают с лопатками, устанавливая их обычно под тем же углом, но в зеркальном отражении по отношению к углу установки лопаток рабочего колеса. Роторные колеса выполняются в виде дисков с прорезями. В статорных колесах имеются зеркально расположенные прорези такой же формы. Рис. 1.1. Схема турбомолекулярного насоса «Турбовак-360»: 1 – подшипник; 2 – канал охлаждения; 3 – электродвигатель; 4 – форвакуумный фланец; 5 – защитная сетка; 6 – высоковакуумный фланец; 7 – статор; 8 – ротор; 9 – пробка канала смазки; 10 – несущий вал
Рис. 1.2. Общая схема турбомолекулярного насоса: а – вид спереди; б – вид сбоку; 1 – ротор; 2 – корпус; 3 – шестерни; 4 – неподвижные статорные колеса Откачная характеристика (зависимость быстроты действия от отношения входного и выходного давлений) турбомолекулярных насосов определяется прежде всего откачными характеристиками рабочих колес, главным образом двумя основными параметрами: максимальной быстротой откачки при отношении давлений, равном единице, и максимальным отношением давлений при быстроте откачки, равной нулю. Теоретические зависимости максимальной быстроты откачки рабочего колеса и создаваемого им максимального отношения давлений от геометрических характеристик межлопаточных каналов или пазов выводят на основании теоретических моделей перехода молекул газа через колесо с учетом законов взаимодействия их со стенками межлопаточных каналов. Вероятность перехода молекул газа на противоположную сторону рабочего колеса выражает часть общего числа молекул газа, попавших в торцевое сечение межлопаточных каналов и перешедших на его противоположную сторону, и зависит от геометрии канала, окружной скорости колеса, скорости теплового движения молекул, а также закона взаимодействия молекул со стенками межлопаточных каналов. Быстроту действия насоса при давлении ниже 0,1 Па измеряют методом двух манометров. Схема установки для испытаний турбомолекулярных насосов и агрегатов представлена на рис. 1.3.
Рис. 1.3. Схема установки для испытаний турбомолекулярных насосов и агрегатов по методу двух манометров: 1 – испытуемый насос; 2 – измерительная камера; 3, 7, 11 – манометрические преобразователи; 4 – натекатель камеры; 5 – напускная трубка; 6 – напускная камера; 8 – диафрагма; 9 – нагреватель камеры; 10 – нагреватель насоса; 12 – форвакуумный насос; 13 – натекатель Метод двух манометров основан на измерении перепада давлений на элементе с известной проводимостью U и применяется для измерения стационарных или медленно изменяющихся во времени газовых потоков. Работу по методу двух манометров (см. рис. 1.3) проводят в следующем порядке. Откачивают измерительную камеру 2 до предельного остаточного давления. Закрывают натекатель камеры 4 и снимают заглушку с его входного отверстия. С помощью натекателя в нижней части камеры (под диафрагмой 8) устанавливают по нижним манометрам давление рт. Одновременно измеряют по верхним манометрам давление рвх в верхней части камеры 6. Проводят не менее трех измерений для различных значений рвх. Быстроту действия насоса S вычисляют по уравнению и вх 1 , d p S U p ⎛ ⎞ = − ⎜ ⎟ ⎝ ⎠ (1.1) где Ud – проводимость диафрагмы; pи – исходное давление.
Проводимость диафрагмы 8 выбирают в зависимости от ожидаемой быстроты действия испытуемого насоса. Рекомендуется принимать Ud = 1/10 быстроты действия насоса. Диаметр диафрагмы определяют по формуле 2 4 2 К 0,187 , d U M d K T = ⋅ (1.2) где М – молекулярная масса газа, кг/моль; KК – коэффициент Клаузинга; Т – абсолютная температура, К. Рекомендуемая толщина диафрагмы 30,5 мм. Предел допускаемых погрешностей при измерении потоков газа приведен в табл. 1.1. Таблица 6.1 Поток газа, Па·м3/с Погрешность, % Более 1 1…10–4 Менее 10–4 ±3 ±5 ±20 Работа, в дополнение к данной теоретической базе, по определению быстроты действия турбомолекулярного насоса проводится по методу постоянного давления. Схема установки приведена на рис. 1.4. Рис. 1.4. Схема измерительной установки: 1 – форвакуумный насос; 2 – турбомолекулярный насос; 3 – измерительная камера; 4, 5 – манометрические преобразователи; 6 – натекатель; 7 – вентиль; 8 – бюретка
В предварительно откачанной до предельного давления камере 3 с помощью натекателя 6 устанавливают давление pi. Вентиль 7, соединяющий бюретку 8 с атмосферой, закрыт. Стационарный поток воздуха Q, (одинаковый в камере и в бюретке) измеряется с помощью бюретки по поднятию в ней вакуумного масла. Поток Qi и давление в камере pi зависят от степени открытия натекателя и быстроты откачки Sh. Газ, поступающий из бюретки в камеру, находится под давлением изм ат м м, p p g h = − ρ Δ (1.3) где ризм – давление воздуха в бюретке, Па; рат – атмосферное давление, Па; ρ – плотность масла, ρ = 0,8 г/см; g – ускорение силы тяжести, м/с; Δhм – высота столба масла, м. Если выполняется условие рат >> ρмgΔh, то можно считать, что pизм ≈ const и требование постоянства давления выполняется. Тогда газовый поток определяется по уравнению изм б изм К , V h Q p p t t Δ Δ = = Δ Δ (1.4) где Δh и ΔV – изменения уровня жидкости и величины объема измерительного цилиндра бюретки за время Δt; Кб – постоянная бюретки, Кб = πR2 изм; Rизм – радиус измерительного объема. Быстрота действия насоса (м3/с) определяется по уравнению , i i i Q S p = (1.5) где pi – давление в камере, измеренное манометрическими преобразователями 4 или 5 (см. рис. 1.4), равное входному давлению насоса. 1.2. Порядок выполнения работы 1. Включить измерительную установку (см. рис. 1.3) согласно инструкции по эксплуатации и откачать измерительную камеру 2 при закрытом натекателе 13 до установления в ней равновесного давления. Равновесным давлением считается давление, которое в течение 3 ч изменяется не более чем на 10 %.
2. Подключить баллон с пробным газом (Аг, Не или С02) к вентилю 7 через редуктор и открыть вентиль 7. 3. Отрегулировать редукционным винтом поток газа так, чтобы на выходе из бюретки наблюдался поток пузырьков пробного газа. 4. Продуть бюретку пробным газом в течение 5 мин. Закрыть вентиль 7 и приступить к измерениям. 5. В случае воздуха (баллон от вентиля 7 отключен) медленно откачать бюретку через натекатель 4 при закрытом вентиле 7 до максимального подъема масла в бюретке и затем открыть вентиль 7 до полного опускания масла. Натекатель 4 и затем вентиль 7 закрыть и откачать камеру 2. 6. Откачать установку до предельного остаточного давления. 1.3. Проведение измерений Пробный газ – воздух. Измерения проводятся методом постоянного давления в диапазоне работы манометрических датчиков. Для проведения измерений необходимо: 1. Включить измерительную установку согласно инструкции по эксплуатации и откачать измерительную камеру 2 до предельного остаточного давления. 2. При открытом вентиле 7 установить в измерительной камере с помощью натекателя 4 требуемое давление, начиная с минимального. 3. Перекрыть вентиль 7 и начать отсчет по секундомеру времени и по шкале бюретки уровня масла t1 – начало (отметка х1 на шкале бюретки) и t2 – конец подъема масляного столба (отметка х2); x1 – х2 = ∆h – высота столба масла. В конце измерения открыть вентиль 7, чтобы масло не ушло в соединительный шланг и в вакуумную камеру 2. 4. Провести измерение потока газа по пп. 2–3 три раза, каждый раз увеличивая давление в камере натекателем 4. 5. Провести аналогичные измерения в обратном порядке, уменьшая каждый раз давление в камере натекателем 4. 6. Результаты измерений внести в табл. 1.2. Таблица 1.2 № п/п t1 t2 x1 x2 p ∆h Q S 1 … 12
Доступ онлайн
В корзину