Определение толщины эпитаксиальных слоев и ширины запрещенной зоны полупроводников методом ИК Фурье-спектрометрии
Покупка
Основная коллекция
Тематика:
Микроэлектроника. Наноэлектроника
Издательство:
Новосибирский государственный технический университет
Год издания: 2012
Кол-во страниц: 28
Дополнительно
Вид издания:
Учебно-методическая литература
Уровень образования:
ВО - Бакалавриат
ISBN: 978-5-7782-1924-3
Артикул: 631450.01.99
Доступ онлайн
В корзину
Тематика:
ББК:
УДК:
ОКСО:
- ВО - Бакалавриат
- 16.03.01: Техническая физика
- ВО - Магистратура
- 16.04.01: Техническая физика
ГРНТИ:
Скопировать запись
Фрагмент текстового слоя документа размещен для индексирующих роботов.
Для полноценной работы с документом, пожалуйста, перейдите в
ридер.
Министерство образования и науки Российской Федерации НОВОСИБИРСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ ТЕХНИЧЕСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ А.А. ВЕЛИЧКО, Б.Б. КОЛЬЦОВ ОПРЕДЕЛЕНИЕ ТОЛЩИНЫ ЭПИТАКСИАЛЬНЫХ СЛОЕВ И ШИРИНЫ ЗАПРЕЩЕННОЙ ЗОНЫ ПОЛУПРОВОДНИКОВ МЕТОДОМ ИК ФУРЬЕ-СПЕКТРОМЕТРИИ „ _______________, Учебно-методическое пособие НОВОСИБИРСК 2012
УДК 535.33(075.8) В 276 Рецензенты: ЛЛ. Борыняк, проф., д-р физ.-мат. наук; НИ. Филимонова, канд. техн. наук Работа подготовлена на кафедре полупроводниковых приборов и микроэлектроники и утверждена Редакционно-издательским советом университета в качестве учебно-методического пособия для студентов IV и V курсов дневного и заочного отделений РЭФ (направления 210100, 210600) Величко А.А. В 276 Определение толщины эпитаксиальных слоев и ширины запрещенной зоны полупроводников методом ИК Фурье-спектрометрии : учеб.-метод. пособие / А.А. Величко, Б.Б. Кольцов. -Новосибирск : Изд-во НГТУ, 2012. - 28 с. ISBN 978-5-7782-1924-3 Дано краткое описание способа измерения ширины запрещенной зоны и толщины гетероэпитаксиальных узкозонных полупроводников методом определения спектральных зависимостей коэффициентов поглощения и отражения на ИК Фурье-спектрометре. В работе кратко изложена теория механизмов поглощения и отражения в полупроводниках. Дано описание ИК Фурье-спектрометра Nicolet 6700, изложена методика проведения эксперимента и обработки экспериментальных данных. Приведены контрольные вопросы и список рекомендованной литературы. УДК 535.33(075.8) ISBN 978-5-7782-1924-3 © Величко А.А., Кольцов Б.Б., 2012 © Новосибирский государственный технический университет, 2012
ВВЕДЕНИЕ При разработке технологии получения гетероэпитаксиальных слоев полупроводников и их твердых растворов необходимо иметь неразрушающие методы контроля параметров этих материалов. В качестве примеров можно привести гетероэпитаксиальные слои GeхSii_х или PbхSn₁_хТе, выращенные на кремниевых подложках. Эти пленки находят применение для создания быстродействующих интегральных схем и фотоприемных устройств соответственно. Важнейшими характеристиками являются толщина d, постоянная кристаллической решетки а и ширина запрещенной зоны Eg слоев твердых растворов GeхSi₁₋х или PbхSn₁₋хТе,, которые зависят от состава твердых растворов х. Эти параметры могут быть определены из измерений спектральной зависимости коэффициентов поглощения и отражения гетероэпитаксиальных слоев в инфракрасной (ИК) области спектра методом ИК Фурье-спектроскопии. Цель работы 1. Изучение принципа работы и усройства ИК Фурье-спектрометра Nicolet 6700. 2. Освоение методики регистрации спектров отражения и пропускания. 3. Определение постоянной кристаллической решетки а, ширины запрещенной зоны Eg и толщины d гетероэпитаксиальных полупроводниковых слоев по спектральным зависимостям коэффициентов поглощения и отражения на ИК Фурье-спектрометре Nicolet 6700.
1. ТЕОРЕТИЧЕСКИЕ СВЕДЕНИЯ 1.1. Основные определения Интенсивность светового потока I характеризует энергию светового потока, падающего в единицу времени на единицу площади, [Дж/м².с]. Вследствие поглощения света в слое dx интенсивность излучения I в единицу времени уменьшится на dI. Интенсивность поглощенного излучения di пропорциональна количеству падающего на слой энергии I и толщине поглощающего слоя dx: - di = аidx . (1.1) Проинтегрировав (1.1), получим, что при отсутствии отражения от границ образца интенсивность света I убывает по закону I = I₀ ехр(-аx), (1.2) который называется законом Бугера. Интенсивность света, достигшая второй границы пленки толщиной x = d, равна I = Iо ехр(-аd). (1.3) Коэффициент пропорциональности а, выражающий количество поглощенной энергии веществом из пучка единичной интенсивности излучения в единицу времени в слое единичной длины, носит название коэффициента поглощения. Спектром поглощения а (X) называется зависимость коэффициента поглощения от длины волны. Коэффициент отражения. Если на пластину полупроводника падает пучок монохроматического излучения интенсивностью Iо, то вследствие процесса отражения и поглощения интенсивность света, входящего в образец, будет уменьшена. Если Iₛ - интенсивность отраженного света, то доля отраженного излучения составит величину, равную ^=I^/Iо, (1.4) получившую название коэффициента отражения. 4
Спектром отражения называют зависимость коэффициента отражения вещества от энергии кванта падающего света R(hv) или длины волны R (X). При учете отражения от внешней границы, выражение (1.3) примет вид I = (1 - R)Iо ехр(-аd). (1.5) С учетом отражения света внутрь образца от второй границы интенсивность вышедшего света будет равна [1-3] I = (1 - R)(1 - R)Iо ехр(-аd) . (1.6) Коэффициентом пропускания называется отношение интенсивности прошедшего через образец света к интенсивности падающего: Т = 4р/1о. (1.7) Важно отметить, что если поглощение не очень велико, то результирующая интенсивность света, вышедшая из образца, будет определяться процессами многократного внутреннего отражения. С учетом этих эффектов соотношение для коэффициента пропускания Т будет иметь вид (1 - R )² е ~а d 1 - R ²е-²аd ' (1.8) Если поглощение в слое настолько велико, что эффектами многократного отражения можно пренебречь (в выражении (1.8) можно пренебречь вторым членом в знаменателе R²е~²а d << 1), то выражение (1.8) для прозрачности Т примет вид Т = (1 - R)² е“²аd , (1.9) а интенсивность света, прошедшего через образец толщиной d, с учетом отражения от двух границ, будет соответственно равна I = (1 - R)²1ое⁻аd . (1.10) Как следует из формул (1.5)-(1.10) для определения спектральных зависимостей R и а необходимо определить коэффициенты отражения и пропускания [4, 5]. 5
1.2. Уравнения Максвелла в проводящей среде Распространение электромагнитных волн в проводящей среде описывается уравнениями Максвелла: _ dH rotЕ - -ppg---, " dt dE , rotH - ss₀---и оЕ, ⁰ dt (1-11) divE - 0, divH - 0. В общем случае s, p, о - функции от w, и они анизотропны. Для скалярных величин распространение электромагнитного излучения в проводящей среде описывается уравнением затухающей волны [1]: Е - Е₀ехрiof t - -1, (1.12) V v J где v“² - ps₁p₀s₀ - i^^. (1.13) w В выражениях (1.11) и (1.12) использовались следующие обозначения: • Е - мгновенное значение напряженности электрической или магнитной составляющей электромагнитного поля; • w - частота; • v - комплексная скорость (v - с / N), где N - комплексный показатель преломления; с - скорость света в вакууме). Показатель преломления: N² =ре-, (1.14) w N - п - ik . (1.15) 6
Выделив в (1.15) N вещественную и мнимую части, получим п² - к² — ре, (1.16) 2 пк — пр / ю, (1.17) где к - главный показатель поглощения; п - главный показатель преломления [4]. 1.3. Спектральная зависимость коэффициента поглощения Из выражений (1.12)-(1.17) можно получить ( ю kzА . ( nzА Е — Е о exp I---| exp i ю| t-|. У с ) У с ) Соответственно поскольку I ~ Е², то , ( 2юkz А ( (, nz П 21 I — exp I-----I exp I iю| t-I IЕ . У с ) у у с )) Из сравнения (1.2) и (1.19) можно записать: 2ю к а —--- с 2л к ~г (1.18) (1.19) (1.20) Поглощение излучения в полупроводниках может быть связано с изменением энергетического состояния свободных или связанных с атомами электронов, а также с изменением колебательной энергии атомов решетки. В связи с этим в полупроводниках различают пять основных типов оптического поглощения: собственное, экситонное, поглощение свободными носителями заряда, примесное, решеточное поглощение [2, 6]. 1.4. Спектральная зависимость коэффициента отражения На границе раздела двух сред амплитуды падающей и отраженной волны связаны с углом падения ф" и углом преломления ф” соотношением Френеля: 7
Еsin ⁽ф’ -ф-) ES ~⁻sin(ф’ + ф’’) Ес, Е. ₌_ tg ⁽ф ⁻ф ) Е ЕР ( . ЕР’ tg ⁽ф +ф J (1-21) (1.22) где ф - угол падения; 5 - индекс плоскости падения;р - индекс плоскости, перпендикулярной 5. Формулы Френеля справедливы и в случае комплексного показателя преломления (проводящие среды): п — ik sin ф’ sin ф’’ (1-23) (ф’’ - также комплексная величина). Коэффициенты отражения определяются как отношения амплитуд отраженных волн к амплитудам падающих волн в соответствующих плоскостях: R S Е1 Eₛ ЕР Ер (1-24) R и Р и сложным образом зависят от ф’, ориентации Е(Епер и Епар) п, и к. При нормальном падении (ф’ - ф’’ - 0) можно получить: R - Rₛ - Rp - ⁽П ⁻¹⁾_ ⁺ к? (ф’ - 0). (1.25) Р (п +1)² + к² 1.5. Определение п и к из отражения и прозрачности При не очень сильном поглощении, когда выполняется соотношение п² >> к² (это справедливо для большинства полупроводников даже при достаточно большой концентрации свободных носителей в широкой об ласти длин волн вне области собственного поглощения 1 llc ^ приХ g > — . ¹р ) 8
При выполнении условия п² >> к² пропускание можно вычислить из формулы Т = (1 - R )² е ~а d 1 - r²е“²«d ' (1.26) Формула (1.26) справедлива при перпендикулярном падении светового потока и отсутствии интерференции в пленках, которая возникает при условии, когда толщина пленки (образца) сравнима с длиной волны. Угловые зависимости коэффициентов отражения R, и Rₚ, приведенные на рисунке, показывают, что вплоть до значений угла падения, равных 15...2O⁰, коэффициенты отражения практически те же, что и при (р = O⁰. Теоретические кривые коэффициентов отражения [4] Из рисунка также следует, что средний коэффициент отражения для двух поляризаций остается практически неизменным до <р, равным 70.. .75°. Это позволяет использовать на практике фактически все углы. При увеличении поглощения, когда прозрачность становится менее Т< 10 % или выполняется соотношение (п² >> к²), коэффициент поглощения можно вычислять из формулы (1.22): 1 (1 - R )² а = —In¹--— d Т . (1.27) Если имеется пленка с показателем преломления п ₁ на подложке с показателем преломления п₂, то необходимо учитывать отражение от 9
границ пленка-подложка, подложка-воздух, пленка-воздух. В случае пренебрежимо малого поглощения в подложке и сильного поглощения в материале пленки вместо формулы (1.27) можно использовать следующее выражение: Г/ а пленки 1]п(1 - *1)(1 - R2)(1 - R12) d Т (1.28) где R₁₂, R₂, R₁ - коэффициент отражения границ пленка-подложка, подложка-воздух, пленка-воздух. 1.6. Экспериментальные методики Для определения коэффициента поглощения используют различные методики эксперимента. Наиболее простым методом является следующий. Чтобы определить а берут два образца различной толщины. Изме ряют прозрачность каждого из них ——, находят их отношение. В этом Iо случае коэффициент отражения из расчетов исчезает. Вычисляют а: а =----¹--In Т² =---¹---In (1.29) d2 ⁻ d2 Т1 d2 ⁻ d2 А Однако важно заметить, что изменение а в 6 раз приводит к изменению Т в 10³ раз, поэтому ошибка в определении а велика. 1.7. Определение п и к на основании интерференционных полос Если толщина пленки d сопоставима с X, то для непоглощающей или слабо поглощающей пленки в спектре пропускания Г(Х) возникают интерференционные полосы, и спектр пропускания описывается выражением Т ₌ (1 - R12)² , 1 + R12 - 2R12 cos 8 (1.30) 10
Доступ онлайн
В корзину